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[所属栏目: 学科硬件]
离子镀膜机
2014-04-01 16:26 徐飞   

本镀膜机型号为SA-6T,配备有6套电弧离化源、2套平面圆靶磁控溅射离化源、1套柱状靶磁控溅射离化源,极限真空度可达Pa,可用于多弧离子镀、平面靶和柱靶磁控溅射离子镀。能对刃具、模具等进行超硬膜的工具镀,制备不同颜色的装饰薄膜,还能沉积多种生物薄膜。拥有0~1500 V可调、大功率直流偏压轰击电源,特别适合于超硬膜的制备。2012年该设备新配备了脉冲偏压电源,镀膜参数的调节具有更大的自由度,为低温沉积薄膜材料提供了可能。真空室尺寸适中,既可用于实验研究,也可进行小规模生产。

该设备已成功合成出TiN,TiC,TiCN,CrN,TiAlN等各种超硬薄膜以及它们组成的多层膜。由于多弧离子镀的绕镀性能优良,这些薄膜可应用到常见甚至比较复杂的工件表面,如各种轴承的内外表面、轴的外表面、钻头、车刀的表面,以提高其耐磨性、耐蚀性等。

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