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[所属栏目: 学科硬件]
磁控与离子束辅助沉积系统
2014-04-01 16:37 徐飞   

系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

技术指标

型号

FJL-560

真空室尺寸

Ф550x450mm

真空系统配置

复合分子泵、机械泵、闸板阀

极限压力

≤6.67x10-5Pa (经烘烤除气后)

恢复真空时间

40分钟可达到6.6x10-4Pa

(系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气)

磁控靶组件

永磁靶4套 靶材尺寸Φ60mm(其中一个可以溅射铁磁性材料) 各靶射频溅射与直流溅射兼容;

靶与样品距离40-80mm可调

主溅射离子枪

引出栅直径Φ30mm离子束能量0.4-2.0Kev连续可调

辅助沉积离子枪

引出栅直径:Φ30mm离子束能量:0.4-1.5Kev连续可调 离子流密度:1-3mA/cm2

气路系统

质量流量控制器3路

计算机控制系统

控制靶挡板、四工位转靶换靶位、样品公转、样品挡板、样品控温等

设备占地面积

主机

1300X850mm2

电控柜

700X700mm2(两个)

图 片:

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