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[所属栏目: 学科硬件]
JGP-450型磁控共溅射沉积系统
2014-04-01 16:39 徐飞   

系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

技术指标

型号

JGP-450

真空室尺寸

圆筒型真空室,Ф450 x350mm

真空系统配置

复合分子泵、机械泵、闸板阀

磁控靶组件

永磁靶3套

靶材尺寸Φ60mm (其中一个可以溅射磁性材料)

各靶射频溅射与直流溅射兼容

三个靶可共同折向上面的样品中心,靶与样品距离90-110mm可调

当直接向上溅射时,靶与样品距离40-80mm可调

单机片水冷加热台

基片结构

基片加热与水冷独立工作,取下加热炉可以换上水冷基片台

样品尺寸

Φ30mm

加热

基片加热最高温度600°C±1°C

基片负偏压

-200V

气路系统

质量流量控制器2路

计算机控制系统

控制样品转动、挡板开关、靶位确认等

图 片:

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